| c-AlN的生长对AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜力学性能的影响 |
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| 引用本文： | 胡晓萍,李戈扬,顾明元.c-AlN的生长对AlN/(Ti,Al)N纳米多层膜力学性能的影响[J].材料研究学报,2003,17(3):326-331. |
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| 作者姓名： | 胡晓萍 李戈扬 顾明元 |
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| 作者单位： | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 |
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| 摘 要： | 采用反应磁控溅射制备了具有不同调制周期的AlN／(Ti，Al)N纳米多层膜，研究了亚稳相立方氮化铝(c—AlN)在纳米多层膜中的生长条件及其对薄膜力学性能的影响．结果表明：在小调制周期下AlN以立方结构存在，并与(Ti，Al)N层形成同结构共格外延生长，使纳米多层膜产生较大的品格暗变．与此相应，AlN／(Ti，Al)N纳米多层膜硬度和弹性模量随调制周期的减小呈单调上升的趋势，当调制周期小于8～10nm时其增速明显增大，并在调制周期为1．3nm时达到最高硬度29．0GPa和最高弹性模量383GPa,AlN／(Ti，Al)N纳米多层膜的硬度和弹性模量在小调制周期时的升高与亚稳相c—AlN的产生并和(Ti，Al)N形成共格结构有关。
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| 关 键 词： | 无机非金属材料 材料表面与界面 纳米多层膜 亚稳相 力学性能 立方氮化铝 |
| 文章编号： | 1005-3093(2003)03-0326-06 |
| 修稿时间： | 2002年9月23日 |
Influence of the growth of c-AlN on the mechanical properties of AlN/(Ti,Al)N nanomultilayers |
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