| 利用(110)硅片制作体硅微光开关的工艺研究 |
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| 引用本文： | 张龙,董玮,张歆东,刘彩霞,陈维友,徐宝琨.利用(110)硅片制作体硅微光开关的工艺研究[J].半导体学报,2004,25(1):99-103. |
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| 作者姓名： | 张龙 董玮 张歆东 刘彩霞 陈维友 徐宝琨 |
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| 作者单位： | 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 长春130023
(张龙，董玮，张歆东，刘彩霞，陈维友)，集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 长春130023(徐宝琨) |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)
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国家自然科学基金
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吉林省科技发展计划
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教育部跨世纪优秀人才培养计划 |
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| 摘 要： | 采用基于湿法腐蚀工艺的体硅微机械加工方法,利用(110 )硅片结晶学特性,通过光刻、反应离子刻蚀和湿法刻蚀等工艺,在硅片上同时制作出微光开关的微反射镜结构、悬臂梁结构、扭臂梁结构和光纤定位槽结构,器件的一致性好,制作工艺简单.利用扇形定位区域,精确地沿(110 )硅片的{ 111}面进行定向腐蚀,可使微反射镜镜面垂直度达到90±0 .3°,经测量表面粗糙度低于6 nm.
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| 关 键 词： | 微反射镜 {111}面 湿法腐蚀 粗糙度 氢氧化钾溶液 |
| 文章编号： | 0253-4177(2004)01-0099-05 |
Fabrication Technique of Bulk-Silicon Micro-Optical Switch in (110) Silicon |
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| Zhang Long,Dong Wei,Zhang Xindong,Liu Caixia,Chen Weiyou and Xu Baokun.Fabrication Technique of Bulk-Silicon Micro-Optical Switch in (110) Silicon[J].Chinese Journal of Semiconductors,2004,25(1):99-103. |
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| Authors: | Zhang Long Dong Wei Zhang Xindong Liu Caixia Chen Weiyou and Xu Baokun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | micro-mirror {111} side wet-etching roughness KOH solution |
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