| 硫酸盐三价铬镀铬工艺中杂质的影响及去除 |
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| 引用本文： | 周智鹏,胡耀红,陈力格,赵国鹏,甘振杰.硫酸盐三价铬镀铬工艺中杂质的影响及去除[J].电镀与涂饰,2008,27(5):11-13. |
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| 作者姓名： | 周智鹏 胡耀红 陈力格 赵国鹏 甘振杰 |
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| 作者单位： | 广州市二轻工业科学技术研究所,广东,广州,510663 |
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| 摘 要： | 研究了硫酸盐三价铬镀铬工艺中铜、锌、铁、镍离子(含量均为50mg/kg)对镀层外观和厚度、镀液极化的影响,比较了不同除杂方法的除杂效果。结果发现,金属离子杂质对镀液的污染使镀层外观发生变化,使镀层厚度减少、镀液极化增大;金属离子的去除可以采用加入除杂剂和电解相结合的方法。指出六价铬、镀镍光亮剂等杂质对三价铬镀铬工艺影响较大,加入双氧水可以去除六价铬;往循环过滤泵中加入活性炭,可以去除镀镍光亮剂。
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| 关 键 词： | 三价铬镀铬 金属离子 六价铬 镀镍光亮剂 污染 杂质去除 |
| 文章编号： | 1004-227X(2008)05-0011-03 |
| 修稿时间： | 2007年8月20日 |
Impurity influence and its removal in process of trivalent chromium plating |
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| ZHOU Zhi-peng,HU Yao-hong,CHEN Li-ge,ZHAO Guo-peng,GAN Zhen-jie.Impurity influence and its removal in process of trivalent chromium plating[J].Electroplating & Finishing,2008,27(5):11-13. |
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| Authors: | ZHOU Zhi-peng HU Yao-hong CHEN Li-ge ZHAO Guo-peng GAN Zhen-jie |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | trivalent chromium sulfate plating metallic ion hexavalent chromium nickel plating brightener pollution impurity removing |
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