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嵌入式电容用钛酸钡/聚酰亚胺复合薄膜的制备及性能研究
引用本文:白晓飞,查俊伟,方也,赵航,党智敏.嵌入式电容用钛酸钡/聚酰亚胺复合薄膜的制备及性能研究[J].绝缘材料,2012(4):14-16,21.
作者姓名:白晓飞  查俊伟  方也  赵航  党智敏
作者单位:1. 北京化工大学 材料科学与工程学院,北京 100029
2. 北京科技大学 化学与生物工程学院,北京 100083
摘    要:对钛酸钡(BT)纳米粒子进行了表面改性,采用原位聚合法将钛酸钡与聚酰亚胺复合制备了高介电BT/PI复合薄膜,为了进一步提高介电性能,将第三组分炭黑掺入其中,并对其进行了红外光谱、扫描电镜(SEM)分析和介电性能测试。结果表明:与未改性的复合薄膜相比,改性后纳米粒子在基体中分散更加均匀,复合薄膜的介电性能明显提高,可用于制备嵌入式电容中的电介质材料。

关 键 词:微观结构  介电性能  复合材料
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