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基于g-r噪声特性的JFET晶体管总剂量效应研究
引用本文:胡为,庄奕琪,包军林,赵启凤.基于g-r噪声特性的JFET晶体管总剂量效应研究[J].半导体学报,2016,37(3):034005-3.
作者姓名:胡为  庄奕琪  包军林  赵启凤
摘    要:为了研究N沟道硅结型场效应晶体管(JFET)在辐照环境下的电特性和噪声特性,利用Co-60源对其进行了γ射线辐照试验。辐照剂量率为0.1 rad(Si)/s,累积总剂量为100k rad(Si),辐照试验以及参数测试均在室温下进行。辐照后,器件的电特性保持不变,但产生复合(g-r)噪声随辐照剂量的增加而增大。通过对噪声功率谱密度数据拟合后发现,g-r噪声的特征频率只有非常微小的变化,而g-r噪声幅度在逐渐增大。利用辐照引起的相同种类(激活能相同)的点缺陷密度的增加以及点缺陷捕获-释放载流子几率的增大机制对试验数据进行了解释。

关 键 词:radiation  junction  field-effect  transistors  generation-recombination  noise
收稿时间:2015/8/31 0:00:00
修稿时间:2015/8/31 0:00:00

Total dose effects on the g-r noise of JFET transistors
Hu Wei,Zhuang Yiqi,Bao Junlin,Zhao Qifeng.Total dose effects on the g-r noise of JFET transistors[J].Chinese Journal of Semiconductors,2016,37(3):034005-3.
Authors:Hu Wei  Zhuang Yiqi  Bao Junlin  Zhao Qifeng
Affiliation:School of Mechano-Electronic Engineering, Xidian University, Xi'an 710071, China
Abstract:
Keywords:radiation  junction field-effect transistors  generation-recombination noise
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