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铋过量对CaBi4Ti4O15铁电薄膜性能的影响
引用本文:范素华,徐静,王培吉,胡广达,张丰庆.铋过量对CaBi4Ti4O15铁电薄膜性能的影响[J].功能材料,2007,38(9):1427-1430.
作者姓名:范素华  徐静  王培吉  胡广达  张丰庆
作者单位:1. 山东建筑大学,材料科学与工程学院,山东,济南,250101
2. 济南大学,材料科学与工程学院,山东,济南,250022
3. 济南大学,理学院,山东,济南,250022
基金项目:国家自然科学基金 , 山东教育厅重点项目
摘    要:利用溶胶凝胶法制备CaBi4 xTi4O15(CBT-x)铁电薄膜,探索了不同铋含量对CBT-x铁电薄膜样品的相结构、微观形貌和电学性能的影响,研究表明,当x为0.3时,样品的剩余极化强度达到最大值,2Pr= 8.7μC/cm2,矫顽场强2Ec=7.6kV/mm,相对介电常数的大小在(160±6)%范围内,损耗因子在0.05~0.08之间,适量的铋含量可以较好地抑制过多的氧空位、焦虑石相和其它杂相的产生.

关 键 词:铁电薄膜  铁电性能  介电性能
文章编号:1001-9731(2007)09-1427-04
修稿时间:2007-01-302007-06-11

Effect of different Bi contents on properties of CaBi4Ti4O15 ferroelectrics thin films
FAN Su-hua,XU Jing,WANG Pei-ji,HU Guang-da,ZHANG Feng-qing.Effect of different Bi contents on properties of CaBi4Ti4O15 ferroelectrics thin films[J].Journal of Functional Materials,2007,38(9):1427-1430.
Authors:FAN Su-hua  XU Jing  WANG Pei-ji  HU Guang-da  ZHANG Feng-qing
Abstract:
Keywords:ferroelectric thin films  ferroelectrics properties  dielectric properties
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