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| 刷洗对硅单晶抛光片表面质量的影响 | |
| 引用本文： | 唐雪林,顾凯峰.刷洗对硅单晶抛光片表面质量的影响[J].上海有色金属,1998,19(3):106-109. |
| 作者姓名： | 唐雪林 顾凯峰 |
| 作者单位： | 上海硅材料厂!上海，201617，上海硅材料厂!上海，201617，上海硅材料厂!上海，201617 |
| 摘 要： | 本文研究了用SVG-18DWC双面擦片机刷洗经RCA工艺清洗后的硅单晶抛光片表面。结果表明：经SVG-18DWC双面擦片机刷洗后，抛光片的表面颗粒有明显的减少，经WISCR－80测试Φ100mm的抛光片，表面大于0.3μm的颗粒总数小于10个／片，而抛光片表面的部分金属杂质沾污有明显的增加。 |
| 关 键 词： | 硅单晶抛光片 表面颗粒 刷洗 擦片机 金属杂质沾污 |
EFFECT OF BRUSHING ON SURFACE QUALITY OF POLISHED SINGLE CRYSTAL SILICON WAFERS |
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| Tang Xuelin, Gu Kaifeng, Yao Baogang.EFFECT OF BRUSHING ON SURFACE QUALITY OF POLISHED SINGLE CRYSTAL SILICON WAFERS[J].Shanghai Nonferrous Metals,1998,19(3):106-109. | |
| Authors: | Tang Xuelin Gu Kaifeng Yao Baogang |
| Abstract: | |
| Keywords: | Polished single crystal silicon wafer Surface particles Brushing Wafer scrubbing machine Metallicimpurity contaminant |
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