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杜邦100CR薄膜耐电晕性能的结构研究
引用本文:张明玉,金家骏,周建华,石慧,刘立柱.杜邦100CR薄膜耐电晕性能的结构研究[J].合成技术及应用,2018(1).
作者姓名:张明玉  金家骏  周建华  石慧  刘立柱
作者单位:苏州工业职业技术学院;苏州沃尔兴电子科技有限公司;苏州天孚光通信股份有限公司;哈尔滨理工大学
摘    要:借助扫描电镜和透射电镜分析了杜邦卡普顿100CR耐电晕聚酰亚胺薄膜的结构,结果表明杜邦100CR薄膜呈现夹心结构,掺杂的片状无机组分主要集中在表层,掺杂厚度约10μm;表层进行无机组分掺杂的优点在于借助无机物良好的电晕阻隔效果来阻挡电晕放电向纵深发展,进而改变电晕的破坏方向;当表层有机质被电晕破坏殆尽时,表层的无机物可以迅速的塌陷形成无机物堆砌,堆砌在薄膜表面形成了屏蔽层,对内部的有机质形成了良好的保护作用;随着表面无机物的堆砌、塌陷,在这个过程中会形成大量的空洞,而形成了隔热保护层,阻隔了电晕放电产生的热量对薄膜内部的影响,防止了热击穿的提前发生,从而提高了薄膜的耐电晕性能。

关 键 词:杜邦卡普100CR薄膜  结构  电晕老化  耐电晕

Structural basis of the corona resistance performance of DuPont 100CR film
Abstract:
Keywords:
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