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1200 V IGBT的性能优化
作者单位:;1.上海先进半导体制造股份有限公司
摘    要:主要研究1200 V IGBT器件的性能优化方法。理论分析了IGBT结构参数与其主要性能的关系,按1200 V IGBT器件击穿电压和饱和压降的设计要求,重点讨论了FS、JFET注入、延长JFET退火时间和减小Pring注入剂量对IGBT器件击穿电压(BV)和饱和压降(Vdson)的影响,最终得到了满足器件设计要求的最佳性能参数。

关 键 词:IGBT  FS-IGBT  JFET注入  JFET退火  Pring注入  击穿电压  饱和压降

An Optimization Method of 1200 V IGBT
Abstract:
Keywords:
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