| 氧分压对反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响 |
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| 引用本文： | 赵莎,徐可为.氧分压对反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响[J].功能材料,2004,35(Z1):3162-3164. |
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| 作者姓名： | 赵莎 徐可为 |
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| 作者单位： | 赵莎（西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049）;徐可为（西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049） |
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| 摘 要： | 从氧空位、表面粗糙度及晶界三方面,讨论了氧分压对射频反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响.结果表明,随氧分压增大,氧空位的减少使单斜相逐渐占优,缺氧状况的改善使薄膜透射率逐渐升高;高氧分压下,出现颗粒聚集现象,表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集长大,使薄膜透射率下降.
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| 关 键 词： | 氧分压 反应磁控溅射 ZrO2薄膜 光学透射率 |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)增刊-3162-03 |
| 修稿时间： | 2004年4月30日 |
Impact of partial oxygen
pressure on transmittance of RF reactively sputtered ZrO2 films |
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| ZHAO Sha.Impact of partial oxygen
pressure on transmittance of RF reactively sputtered ZrO2 films[J].Journal of Functional Materials,2004,35(Z1):3162-3164. |
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| Authors: | ZHAO Sha |
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| Keywords: | |
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