浅谈半导体涂胶显影设备生产的洁净度控制 |
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引用本文: | 苗阵王贺王爽郭立建.浅谈半导体涂胶显影设备生产的洁净度控制[J].通讯世界,2023(3):166-168. |
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作者姓名: | 苗阵王贺王爽郭立建 |
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作者单位: | 1.沈阳芯源微电子设备股份有限公司110000; |
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摘 要: | 在半导体生产过程中,若生产设备存在杂质污染物会改变或破坏半导体的特性,因此,必须对杂质污染物进行严格控制。基于半导体制造厂对半导体涂胶显影设备中的污染颗粒要求,对半导体涂胶显影设备的零部件清洁过程、装配过程、调试过程、包装过程等环节污染颗粒管控进行介绍,对半导体涂胶显影设备中污染颗粒超标的常见问题进行分析,并提出污染颗粒的把控方法,以期为相关人员提供参考。
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关 键 词: | 半导体 污染颗粒 洁净度 洁净间 |
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