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| RF等离子体CVD合成氮化碳薄膜的XPS研究 | |
| 引用本文： | 吴大维,张志宏.RF等离子体CVD合成氮化碳薄膜的XPS研究[J].功能材料,1997,28(1):93-95. |
| 作者姓名： | 吴大维 张志宏 |
| 作者单位： | 武汉大学物理系，武汉工业大学 |
| 摘 要： | 采用射频等离子体化学气相沉积技术合成氮化碳薄膜，测量其Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ），获得两组Ｃ（１ｓ）电子和Ｎ（ｌｓ）电子结合能，它们是Ｅ（Ｃ＾１）＝３９８．０￣３９８．７ｅＶ，Ｅ（Ｃ＾２）＝２８４．６￣２８４．８ｅＶ；Ｅ（Ｎ＾１）＝３９８。０￣３９８．７ｅＶ，Ｅ（Ｎ＾２）＝４００．０￣４００．９ｅＶ。证实了薄膜中碳原子存在ｓｐ＾３杂化轨道成键和ｓｐ＾２杂化轨道成键两种键合形式。该方法合成的氮化碳薄 |
| 关 键 词： | 氮化碳 XPS 薄膜 超硬材料 |
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