纳米碳化硅抛光液的制备及其对蓝宝石晶片抛光性能的研究 |
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引用本文: | 熊伟,储向峰,董永平,张王兵,叶明富,孙文起.纳米碳化硅抛光液的制备及其对蓝宝石晶片抛光性能的研究[J].金刚石与磨料磨具工程,2013(5):17-21. |
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作者姓名: | 熊伟 储向峰 董永平 张王兵 叶明富 孙文起 |
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作者单位: | 安徽工业大学化学化工学院 |
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基金项目: | 国家自然科学基金项目(50975002);安徽工业大学创新团队项目(TD201204);教育部高校留学回国人员科研项目 |
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摘 要: | 制备了一种纳米SiC抛光液,用透射电镜观察其粒子形貌,通过纳米粒度仪研究了分散剂种类对悬浮液中SiC的粒径分布和Zeta电位的影响,并用制备的抛光液对蓝宝石晶片进行化学机械抛光。使用原子力显微镜观察蓝宝石晶片抛光后的表面形貌。结果表明:SiC磨料在以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为分散剂的悬浮液中分散效果最好;在相同试验条件下,采用质量分数1%的SiC抛光材料的去除速率最大,为24.0 nm/min,获得蓝宝石晶片表面质量较好,表面粗糙度R a为2.2 nm。
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关 键 词: | SiC 蓝宝石晶片 化学机械抛光 分散剂 |
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