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2m比长仪纳米级高精度刻线自动瞄准系统
引用本文:叶孝佑,高宏堂,邹邻丁,张晓,甘晓川,孙双花,常海涛,沈雪萍,陈黎云.2m比长仪纳米级高精度刻线自动瞄准系统[J].计量学报,2010,31(Z2).
作者姓名:叶孝佑  高宏堂  邹邻丁  张晓  甘晓川  孙双花  常海涛  沈雪萍  陈黎云
作者单位:1. 中国计量科学研究院,北京,100013
2. 浙江计量科学研究院,浙江,杭州,310013
3. 北京航空航天大学,北京,100191
摘    要:阐述了2m比长仪刻线瞄准系统的组成,对其光电显微刻线成像的原理及刻线图像信号进行了分析,根据其刻线信号的特点,研究了其高精度的刻线信号自动处理系统,该系统基于FPGA现场可编程电路技术,实现刻线信号的自动门控触发、自动滤除虚假刻线信号,配合计算机信号自动处理软件可以实现刻线测量的高精度自动瞄准.最后对2m比长仪的瞄准精度进行了测试实验,实验结果表明,测量金属标准线纹尺时,2m比长仪单次测量刻线瞄准精度优于10nm(1σ).

关 键 词:计量学  比长仪  动态校准  位移传感器

Auto Aiming System for Lines with Nanometer Accuracy of 2m Length Comparator
YE Xiao-you,GAO Hong-tang,ZOU Lin-ding,ZHANG Xiao,GAN Xiao-chuan,SUN Shuang-hua,CHANG Hai-tao,SHEN Xue-ping,CHEN Li-yun.Auto Aiming System for Lines with Nanometer Accuracy of 2m Length Comparator[J].Acta Metrologica Sinica,2010,31(Z2).
Authors:YE Xiao-you  GAO Hong-tang  ZOU Lin-ding  ZHANG Xiao  GAN Xiao-chuan  SUN Shuang-hua  CHANG Hai-tao  SHEN Xue-ping  CHEN Li-yun
Abstract:
Keywords:
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