用多孔氧化铝模板制备高度取向碳纳米管阵列膜的研究 |
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引用本文: | 王成伟,李梦柯,潘善林,力虎林.用多孔氧化铝模板制备高度取向碳纳米管阵列膜的研究[J].科学通报,2000,45(5):493-497. |
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作者姓名: | 王成伟 李梦柯 潘善林 力虎林 |
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作者单位: | 兰州大学化学系,兰州,730000 |
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基金项目: | 国家自然科学基金重点资助项目!(批准号: 69890220). |
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摘 要: | 用多孔氧化铝(AAO)模板(孔径约 250 nm,孔密度约 5.3×10~8cm~(-2),厚度约 60μm)进行化学气相沉积(CVD),成功地制备出大面积高度取向的碳纳米管有序阵列膜.用透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)观察了阵列膜的表面形貌和碳纳米管的结构.发现碳纳米管的长度和管径取决于AAO模板的厚度和孔径,碳纳米管的生长特性与模板的结构、催化剂颗粒、反应气体热解温度、流量比例以及沉积时间等因素有关.该方法工艺简便,可使碳纳米管的结构均匀一致,排列分立有序,形成一种有用的碳纳米管自组装有序阵列复合结构,且成本低,能实现大面积生长,非常利于碳纳米管基础与应用研究.
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关 键 词: | 多孔氧化铝模板 碳纳米管阵列膜 化学气相沉积 |
收稿时间: | 1999-09-28 |
修稿时间: | 2000-01-14 |
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