| 磁控溅射法制备CeO2-TiO2紫外吸收薄膜 |
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| 引用本文： | 周学东,倪佳苗,赵修建,杨晟,龚勇宏,肜建娜.磁控溅射法制备CeO2-TiO2紫外吸收薄膜[J].武汉理工大学学报,2006,28(1):7-10. |
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| 作者姓名： | 周学东 倪佳苗 赵修建 杨晟 龚勇宏 肜建娜 |
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| 作者单位： | 武汉理工大学硅酸盐工程中心教育部重点实验室,武汉,430070 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射在玻璃基片上沉积具有紫外吸收CeO2-TiO2混和薄膜。通过制备一系列不同物质的量浓度比的，n（CeO2）：n（TiO2）靶材（1．0：0，0．90：0．10，0．80：020，0．70：0．30，0．60：0．40，0．50：0．50，0．40：0．60，0．30：0．70，0．20：0．80，0．10：0．90，0：1．0），研究其紫外吸收性能最佳的物质的量浓度比：TiO2加入CeO2后，改变CeO2的结晶状态并提高UV吸收．采用Raman和XPS表征薄膜的特性，物质的量浓度比值在n（CeO2）：n（TiO2）=0．5：0．5，0．6：0．4时，薄膜为非晶态，并具有高的紫外吸收（98％）和可见光透过率（70％-80％）；XDS分析表明薄膜存在（F^4＋，Ce^3＋和Ti^4＋。
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| 关 键 词： | CeO2-TiO2薄膜 UV吸收 磁控溅射 |
| 文章编号： | 1671-4431(2006)01-0007-03 |
| 修稿时间： | 2005年10月26 |
Prepartation of CeO2-TiO2 Thin Films for UV Absorbing by RF Sputtering |
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| ZHOU Xue-dong,NI Jia-miao,ZHAO Xiu-jian,YANG Sheng,GONG Yong-hong,RONG Jian-na.Prepartation of CeO2-TiO2 Thin Films for UV Absorbing by RF Sputtering[J].Journal of Wuhan University of Technology,2006,28(1):7-10. |
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| Authors: | ZHOU Xue-dong NI Jia-miao ZHAO Xiu-jian YANG Sheng GONG Yong-hong RONG Jian-na |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CeO_2-TiO_2 thin films UV absorption RF |
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