首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

新型水溶性含季铵碱基感光树脂的合成及性能
引用本文:高玉,詹学贵,谢洪泉,甘志伟.新型水溶性含季铵碱基感光树脂的合成及性能[J].高分子材料科学与工程,2004,20(1):65-67.
作者姓名:高玉  詹学贵  谢洪泉  甘志伟
作者单位:华中科技大学化学系,湖北,武汉,430074;华中科技大学化学系,湖北,武汉,430074;华中科技大学化学系,湖北,武汉,430074;华中科技大学化学系,湖北,武汉,430074
摘    要:研究了作为新型水显影阻焊剂的含丙烯酸酯基及季铵盐基的酚醛树脂用碱的醇溶液改性成为水溶性的含季铵碱基及丙烯酸酯基的酚醛树脂的反应条件,并研究了对其感光性能的影响,用TGA测定季铵离子基热分解温度。结果指出,改性转化率可达90%,产物保持水溶性,而其离子热分解温度明显下降至120℃,但感光性能有一些下降。

关 键 词:TQ317:感光高分子  环氧酚醛树脂  水溶性高分子  季铵碱  水显影阻焊剂亮
文章编号:1000-7555(2004)01-0065-03
修稿时间:2002年3月13日

SYNTHESIS AND PROPERTIES OF WATER SOLUBLE PHOTOSENSITIVE QUATERNARY AMMONIUM HYDROXIDE GROUPS CONTAINING PHENOLIC RESIN
GAO Yu,ZHAN Xue-gui,XIE Hong-quan,GAN Zhi-wei.SYNTHESIS AND PROPERTIES OF WATER SOLUBLE PHOTOSENSITIVE QUATERNARY AMMONIUM HYDROXIDE GROUPS CONTAINING PHENOLIC RESIN[J].Polymer Materials Science & Engineering,2004,20(1):65-67.
Authors:GAO Yu  ZHAN Xue-gui  XIE Hong-quan  GAN Zhi-wei
Abstract:
Keywords:photosensitive polymer  epoxy phenolic resin  water soluble polymer  quaternary ammonium hydroxide  water-developable soldering mask
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号