| 氧氟沙星敏化光解磺胺甲恶唑 |
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| 引用本文： | 赵旭蕾,董佳玥,陆隽鹤.氧氟沙星敏化光解磺胺甲恶唑[J].环境科学学报,2022,42(11):85-93. |
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| 作者姓名： | 赵旭蕾 董佳玥 陆隽鹤 |
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| 作者单位： | 南京农业大学资源与环境科学学院，南京 210095 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目（No.21876085） |
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| 摘 要： | 抗生素是环境中广泛存在的一类新兴污染物，因其可诱导细菌抗药性及产生抗性基因而备受关注.本研究发现氟喹诺酮类抗生素具有的光化学活性，可能影响共存的磺胺类抗生素（SAs）的转化.系统考察了一种典型的氟喹诺酮类抗生素—氧氟沙星（OFLO）对磺胺甲恶唑（SMX）的光化学转化.结果表明，在365 nm紫外光照条件下，OFLO可以有效敏化光解SMX.激发三重态（3OFLO*）是促进SMX光解的主要活性物质.密度泛函理论（DFT）计算结合高分辨率质谱（HRMS）分析表明，3OFLO*将SMX分子中的氨基氮氧化成一个自由基阳离子（R-NH2?+）.该自由基阳离子可水解生成羟胺衍生物，并进一步氧化生成亚硝化和硝化产物.此外，它们也可以二聚生成偶氮产物.光反应过程中，敏化剂OFLO也发生了降解.但OFLO的光解产物均保留了核心喹诺酮结构，因此也保留了OFLO分子的光敏活性.该研究有助于进一步了解抗生素复合污染情况下的环境行为，具有重要的环境意义.
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| 关 键 词： | 氧氟沙星 光化学活性 磺胺甲恶唑 光敏剂 敏化光解 |
| 收稿时间： | 2022/1/22 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2022/2/8 0:00:00 |
Ofloxacin sensitized photodegradation of sulfamethoxazole |
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| ZHAO Xulei,DONG Jiayue,LU Junhe.Ofloxacin sensitized photodegradation of sulfamethoxazole[J].Acta Scientiae Circumstantiae,2022,42(11):85-93. |
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| Authors: | ZHAO Xulei DONG Jiayue LU Junhe |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ofloxacin photochemical reactivity sulfamethoxazole photosensitizer sensitized photolysis |
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