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| 电介质膜增强的Goos-H(a)nchen位移的微波测量 | |
| 引用本文： | 李春芳,杨晓燕,段弢,张纪岳.电介质膜增强的Goos-H(a)nchen位移的微波测量[J].中国激光,2006,33(6):753-755. |
| 作者姓名： | 李春芳 杨晓燕 段弢 张纪岳 |
| 作者单位： | 李春芳:中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学技术国家重点实验室, 陕西 西安 710068上海大学理学院物理系, 上海 200444 杨晓燕:华中科技大学光电子工程系, 湖北 武汉 430074 段弢:中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学技术国家重点实验室, 陕西 西安 710068 张纪岳:中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学技术国家重点实验室, 陕西 西安 710068 |
| 基金项目： | 中国科学院资助项目;上海市科委资助项目;上海市青年科技启明星计划;上海市教委资助项目;上海市学科建设项目 |
| 摘 要： | 如果在折射率较高的电介质基底上镀一层折射率较低的电介质薄膜(介质膜的另一侧为折射率更低的介质,如空气),并且恰当选择基底内光束的入射角,使得光束在基底-介质膜界面上折射到薄膜内、在薄膜-空气界面上全反射,那么反射光束的Goos-H(a)nchen(GH)位移在一定条件下会得到共振增强.采用微波技术直接地测量了这种Goos-H(a)nchen位移随电介质膜厚度的变化,测量结果与理论预言吻合得较好. |
| 关 键 词： | Goos-H(a)nchen位移 共振增强 电介质膜 微波测量 |
| 收稿时间： | 2005/10/23 |
Microwave Measurement of Dielectric Film-Enhanced Goos-H(a)nchen Shift |
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| LI Chun-fang,YANG Xiao-yan,DUAN Tao,ZHANG Ji-yue.Microwave Measurement of Dielectric Film-Enhanced Goos-H(a)nchen Shift[J].Chinese Journal of Lasers,2006,33(6):753-755. | |
| Authors: | LI Chun-fang YANG Xiao-yan DUAN Tao ZHANG Ji-yue |
| Abstract: | The Goos-Hnchen shift (GH shift) of reflected beam is resonance enhanced under some conditions when the incident beam transmits from the high-refractive index prism to the low-refractive index dielectric thin-film and is totally reflected from the film-air interface. In this paper, the GH shift versus the film thickness is directly measured by microwave technology. The experimental measurements confirm the theoretical prediction. |
| Keywords: | Goos-Hanchen shift resonance enhancement dielectric film microwave measurement |
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