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CeF3掺杂增强纳米晶Si光致发光强度的研究
引用本文:方应翠  解志强  赵有源,章壮健  陆明.CeF3掺杂增强纳米晶Si光致发光强度的研究[J].真空科学与技术学报,2005,25(5):335-338.
作者姓名:方应翠  解志强  赵有源  章壮健  陆明
作者单位:方应翠(合肥工业大学,机械与汽车工程学院真空教研室,合肥,230009;复旦大学材料系,上海,200433);解志强(复旦大学光科学与工程系,上海,200433);赵有源(复旦大学光科学与工程系,上海,200433);章壮健(复旦大学材料系,上海,200433);陆明(复旦大学光科学与工程系,上海,200433)
基金项目:国家自然科学基金(No.10374016),复旦大学研究生创新基金
摘    要:真空蒸发SiO粉末,在Si(100)基体上制备SiOx薄膜,后续氮气中1100 ℃退火制备镶嵌在SiO2基体中的纳米晶Si体系(nc-Si/SiO2),然后将该样品放入真空室,在其上沉积CeF3薄膜,不同温度下热处理使Ce3+扩散到nc-Si附近,实现对纳米晶Si的掺杂.通过改变CeF3薄膜厚度调节掺杂浓度,在一定的掺杂浓度下纳米晶Si的光致发光强度明显改善,激发光谱证实荧光增强机制是Ce3+通过强耦合过程对纳米晶Si的能量传递.

关 键 词:nc-Si/SiO2  光致发光  CeF3掺杂  能量传递
文章编号:1672-7126(2005)05-0335-04
修稿时间:2004年12月1日

Photoluminescence Enhancement of Si Nanocrystals by CeF3 Doping
Fang Yingcui.Photoluminescence Enhancement of Si Nanocrystals by CeF3 Doping[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2005,25(5):335-338.
Authors:Fang Yingcui
Abstract:
Keywords:
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