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CVD金刚石膜抛光新技术
引用本文:郭钟宁,王成勇,刘晓宁,匡同春.CVD金刚石膜抛光新技术[J].新技术新工艺,2001,1(6):41-43.
作者姓名:郭钟宁  王成勇  刘晓宁  匡同春
作者单位:广东工业大学 510090
基金项目:本项目为国家自然科学基金、广东省自然科学基金项目
摘    要:提出了一种新的CVD金刚石膜抛光技术。金刚石膜表面被预先涂覆一层导电金属,然后采用电蚀方法对该表面进行加工,使金刚石膜突起的尖峰被迅速去除,加工中金刚石表面的石墨化使电蚀加工得以不断延续。采用CVD金刚石膜抛光新技术,可以高效率地完成对CVD金刚石膜的粗抛光。

关 键 词:金刚石膜  抛光  电蚀加工  CAD

The New Technology of Polishing CVD Diamond Film
Abstract:
Keywords:
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