CVD金刚石膜抛光新技术 |
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引用本文: | 郭钟宁,王成勇,刘晓宁,匡同春.CVD金刚石膜抛光新技术[J].新技术新工艺,2001,1(6):41-43. |
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作者姓名: | 郭钟宁 王成勇 刘晓宁 匡同春 |
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作者单位: | 广东工业大学 510090 |
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基金项目: | 本项目为国家自然科学基金、广东省自然科学基金项目 |
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摘 要: | 提出了一种新的CVD金刚石膜抛光技术。金刚石膜表面被预先涂覆一层导电金属,然后采用电蚀方法对该表面进行加工,使金刚石膜突起的尖峰被迅速去除,加工中金刚石表面的石墨化使电蚀加工得以不断延续。采用CVD金刚石膜抛光新技术,可以高效率地完成对CVD金刚石膜的粗抛光。
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关 键 词: | 金刚石膜 抛光 电蚀加工 CAD |
The New Technology of Polishing CVD Diamond Film |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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