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采用CVD技术制备晶体C—N膜
引用本文：褚连青.采用CVD技术制备晶体C—N膜[J].电子材料快报,1996(8):5-6.
作者姓名：褚连青
摘    要：
关 键 词：化学气相沉积  氮化碳  C－N  半导体薄膜  晶体
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