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| 准分子激光直接刻蚀聚酰亚胺技术研究 | |
| 引用本文： | 任临福,张玉书.准分子激光直接刻蚀聚酰亚胺技术研究[J].微细加工技术,1989(2):36-38. |
| 作者姓名： | 任临福 张玉书 |
| 作者单位： | 吉林大学 (任临福，张玉书，张庆有)，吉林大学(石景龙) |
| 摘 要： | 一、引言随着大规模集成电路和集成光学的不断发展,对加工技术的要求越来越高,如目前提出图形的精细化,过程低温化,掺杂薄层化及可控性优化等,而准分子激光器则以它能量高、波长短(200～400nm)等优点为解决这些问题提供了有利条件。于是,八十年代开始形成了准分子微细加工新兴技术领域。准分子激光微细加工大体可分为激光曝光技术,激光CVD |
| 关 键 词： | 准分子 激光 刻蚀 聚酰亚胺 |
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