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| TiNi形状记忆合金薄膜的位借与相变 | |
| 引用本文： | 单凤兰,霍艳玲,滕凤恩,王煜明.TiNi形状记忆合金薄膜的位借与相变[J].稀有金属材料与工程,1998(4). |
| 作者姓名： | 单凤兰 霍艳玲 滕凤恩 王煜明 |
| 作者单位： | 吉林大学 |
| 摘 要： | 用Ｘ射线衍射线形的傅里叶分析及电阻法，研究了溅射Ｔｉ－４９．３７ａｔ％Ｎｉ合金薄膜的位错组态及相转变温度随退火条件的变化规律，以及位错密度与相变温度的关系。研究结果表明：随退火温度升高和保温时间增加，平均位错密度下降，马氏体相变温度升高。位错密度的变化受析出相粒子的大小和分布制约。随位错密度增加，马氏体相变温度下降，Ｒ相变温度基本保持不变。 |
| 关 键 词： | TiNi合金 薄膜 位错 相变 |
Dislocation and Phase Transformation in Thin Films of the Shape Memory Alloy TiNi |
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| Abstract: | |
| Keywords: | TiNi alloys thin film dislocation phase transformation |
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