基片等离子处理对PTFE微波基板性能的影响 |
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引用本文: | 金霞,韩笑,薛微婷,冯春明,冯贝贝.基片等离子处理对PTFE微波基板性能的影响[J].塑料工业,2024(2):54-59+78. |
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作者姓名: | 金霞 韩笑 薛微婷 冯春明 冯贝贝 |
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作者单位: | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
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摘 要: | 采用等离子处理对聚四氟乙烯(PTFE)基片进行表面处理,研究气体流量、放电功率、处理时间的变化对PTFE基片微观形貌和接触角的影响,进而研究对PTFE微波基板介质损耗、吸水率、剥离强度等综合性能的影响。实验结果表明,等离子体处理可以有效增加基片表面粗糙度,降低PTFE基片的接触角,提高其表面能,使覆铜箔层压板的铜箔与介质层之间结合强度提升,制备的PTFE微波基板的剥离强度可接近未处理之前剥离强度的3倍。
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关 键 词: | 等离子 聚四氟乙烯 微波基板 接触角 介质损耗 吸水率 剥离强度 |
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