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FinFET工艺器件总剂量和单粒子效应研究进展
引用本文:陶伟,魏轶聃,刘国柱,魏敬和.FinFET工艺器件总剂量和单粒子效应研究进展[J].中国电子科学研究院学报,2022,17(3):270-281.
作者姓名:陶伟  魏轶聃  刘国柱  魏敬和
作者单位:中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏无锡 214072
摘    要:

关 键 词:FinFET  总剂量效应  单粒子效应  尺寸  浓度

Research Progress of Total Ionizing Dose and Single Event Effect of Devices Based on FinFET Process
TAO Wei,WEI Yi-dan,LIU Guo-zhu,WEI Jing-he.Research Progress of Total Ionizing Dose and Single Event Effect of Devices Based on FinFET Process[J].Journal of China Academy of Electronics and Information Technology,2022,17(3):270-281.
Authors:TAO Wei  WEI Yi-dan  LIU Guo-zhu  WEI Jing-he
Abstract:
Keywords:
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