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| 摩尔定律与半导体设备(续前) | |
| 引用本文： | 翁寿松.摩尔定律与半导体设备(续前)[J].电子工业专用设备,2003,32(1):35-37,42. |
| 作者姓名： | 翁寿松 |
| 作者单位： | 华晶集团无锡市无线电元件四厂,江苏,无锡,214002 |
| 摘 要： | <正> 2.3纳米半导体工艺及其设备 影响摩尔定律的寿命和芯片特征尺寸能否进一步缩小的焦点是100nm的尺寸,正好是纳米技术的范畴。所谓纳米技术是以十亿分之一米单位为对象的超精密技术,又通常指0.1-100nm范围内加工或操作单个原子的技术。20世纪80年代中叶至90年代初期,日本掌握了微米技术(1.2-0.8μm),在 |
| 关 键 词： | 摩尔定律 半导体设备 纳米半导体 中国 |
| 文章编号： | 1004-4507(2003)01-0000-00 |
The Moore's Law and Semiconductor Equipment (Continued) |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
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