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| 0.4-3.0Mev质子激发Al和Si薄靶的k-x射线研究 | |
| 引用本文： | 蔡晓红 ,马树勋 ,柳纪虎 ,刘兆远 ,董发运 ,刘绍湘 ,冯嘉祯 ,张之津.0.4-3.0Mev质子激发Al和Si薄靶的k-x射线研究[J].兰州大学学报(自然科学版),1988(3). |
| 作者姓名： | 蔡晓红 马树勋 柳纪虎 刘兆远 董发运 刘绍湘 冯嘉祯 张之津 |
| 摘 要： | 我们研究了能量在0.4—3.0Mev 范围的质子轰击 Al 和 Si 薄靶产生的 k 壳层 X 射线,得到了 k 壳层 X 射线产生截面以及相应的电离截面,并与 PWBA 及 ECPSSR 的预言值作了比较. |
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