| 垂直磁场作用下电沉积数值分析与实验 |
| |
| 引用本文： | 贾卫平.垂直磁场作用下电沉积数值分析与实验[J].大连理工大学学报,2013,53(5):671-677. |
| |
| 作者姓名： | 贾卫平 |
| |
| 作者单位： | 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室;大连大学特种加工与功能材料制备辽宁省教育厅重点实验室;大连理工大学机械工程与材料能源学部 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50975034);辽宁省科技计划资助项目(2010223006) |
| |
| 摘 要： | 对电沉积过程中磁场、电场和流场进行数值分析并利用COMSOL仿真软件进行数值求解,得到了无磁场作用和0.2T垂直磁场作用下流体流场分布、镀液中电场分布以及不同时间段镀层厚度变化特征的数值结果,并对其进行了对比分析.为了解磁场对电沉积过程的影响规律,分别在施加0、0.2、0.4和0.8T磁场作用下电沉积镍,对比实验和数值分析结果表明,镀层厚度仿真值和实验值变化趋势接近,无磁场条件下平均绝对偏差为0.443μm,0.2T磁场条件下平均绝对偏差为0.425μm.施加0.2T垂直磁场作用后,镀层的平均厚度较无磁场作用下增加了11%,与仿真结果一致,并且随着磁场强度的增加,镀层晶粒细化度、表面质量得到进一步提高.分析结果表明数值分析可以较为精确地反映磁场对电沉积过程的影响作用.
|
| 关 键 词： | 电沉积 磁场 数值模拟 流场 电场 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《大连理工大学学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《大连理工大学学报》下载全文 |
|
