上颌后牙区腭侧微种植体支抗近远中向植入安全位置的锥形束CT研究

目的    应用锥形束CT（CBCT）研究微种植体支抗在上颌后牙区腭侧植入时，其在上颌第二前磨牙、第一磨牙间以及上颌第一、第二磨牙间近远中向的植入位置，为临床选择微种植体支抗安全的植入位置提供参考。方法    根据纳入标准，从北部战区总医院口腔科选取60例曾于2020年1—12月期间因口腔疾病前来就诊的成人患者的CBCT影像资料作为研究对象。在上颌第二前磨牙、第一磨牙间腭侧以及上颌第一、第二磨牙间腭侧，分别测量距腭尖水平连线12、14、16、18 mm位置时，相邻两牙的腭根距过相邻两牙牙冠接触点与腭尖水平连线垂直的参考线的距离，以及相邻两牙腭根之间的中点分别距此参考线的距离。结果    上颌后牙区腭侧，相邻两牙腭根之间的中点均位于参考线的远中。距腭尖水平连线越高，相邻两牙腭根间中点与参考线的距离越大（P < 0.05）。距腭尖水平连线高度相同的情况下，上颌第二前磨牙、第一磨牙腭根间中点到参考线的距离大于上颌第一、第二磨牙腭根间中点到参考线的距离（P < 0.05）。结论    在上颌后牙区腭侧植入微种植体支抗时，应选择在参考线偏远中位置植入，此时近远中向植入位置接近相邻两牙腭根间的中点，是较为安全的植入位置。