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Mikrotechnik für Raumfahrtanwendungen |
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| Authors: | W Fallmann P Hudek I Kostic A Neubauer D Pum I Rangelow K Riedling F Rüdenauer U B Sleytr G Stangl |
| Affiliation: | 1. Institut für Allgemeine Elektrotechnik und Elektronik, TU Wien, Gu?hausstra?e 27/359, A-1040, Wien 2. Akademie der Wissenschaften, Bratislava, Slowakei 3. Zentrum für Ultrastrukturforschung und Ludwig Boltzmann-Institut für molekulare Nanotechnologie, Universit?t für Bodenkultur, Gregor-Mendel-Stra?e 33, A-1190, Wien 4. Universt?t Kassel, Heinrich-Blett-Stra?e 40, D-34109, Kassel 5. ?sterreichisches Forschungszentrum Seibersdorf, A-2444, Seibersdorf |
| Abstract: | This contribution describes the preparation, based upon a chemically amplified novolak resist (CAR), electron beam lithography, and ECR plasma etching, of structures with a high aspect ratio (10∶1) and lateral dimensions in the sub-micrometer range (150nm–300nm) which may serve as collector surfaces for sub-μm dust particles in a space experiment. |
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