首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

Si基膜片型气敏传感器微结构单元的热学性能
引用本文:高晓光,李建平,何秀丽,于中尧,王利.Si基膜片型气敏传感器微结构单元的热学性能[J].微细加工技术,2002(1):50-53,55.
作者姓名:高晓光  李建平  何秀丽  于中尧  王利
作者单位:中国科学院电子学研究所传感技术国家重点实验室,北京,100080
摘    要:微结构气敏传感器由于其微型化、低功耗、易阵列化和易批量生产等优点而受到国内外研究者的广泛关注。利用微机电系统(MEMS)加工技术,制备Si基膜片型微结构单元,并分析其热学性能。这种单元工作区温度为-300℃时,加热功率约75mW;并且膜片工作区的热质量很小,温度可以于毫秒量级的时间内,在室温和450℃之间调制。利用这种微结构单元,可以在温度调制方式下,研究气敏薄膜的电学特性和敏感机理。

关 键 词:气敏传感器  硅基膜片型  微结构单元  微机电系统  热学性能
文章编号:1003-8213(2002)01-0050-04

Thermal Properties of Si-based Module of Membrane-type MGS
GAO Xiao guang,LI Jian ping,HE Xiu li,YU Zhong yao,WANG Li.Thermal Properties of Si-based Module of Membrane-type MGS[J].Microfabrication Technology,2002(1):50-53,55.
Authors:GAO Xiao guang  LI Jian ping  HE Xiu li  YU Zhong yao  WANG Li
Abstract:
Keywords:Si  based module of membrane  type MGS  MEMS  thermal properties
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号