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拉伸模具内孔CVD金刚石薄膜抛光工艺研究
引用本文:周思浩,相炳坤,王仕杰,苏文玉,孟兆升,王轶群.拉伸模具内孔CVD金刚石薄膜抛光工艺研究[J].机械制造与自动化,2018(2).
作者姓名:周思浩  相炳坤  王仕杰  苏文玉  孟兆升  王轶群
作者单位:南京航空航天大学机电学院;扬州伽码超硬材料有限公司
摘    要:化学气相沉积(CVD)金刚石一般无法直接应用,需要对其进行抛光处理。在熟悉平面厚膜抛光的机理基础上,采用自制抛光的设备,对拉伸模具内孔CVD金刚石薄膜进行机械抛光工艺的研究,借助表面粗糙度仪、扫描电子显微镜(SEM)对抛光前后及抛光过程中金刚石的表面形貌进行了观察,并对抛光过程进行了分析,研究表明:采用先粗抛光后半精抛光的工艺较为理想。

关 键 词:CVD金刚石薄膜  机械抛光  表面形貌  拉伸模具

Study of Polishing Process of CVD Diamond Film in Inner Hole of Drawing Die
Abstract:
Keywords:
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