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用于光学玻璃CMP的高效稀土抛光液研究
引用本文:王也,张保国,吴鹏飞,谢孟晨,李烨,李浩然.用于光学玻璃CMP的高效稀土抛光液研究[J].润滑与密封,2023,48(5):79-84.
作者姓名:王也  张保国  吴鹏飞  谢孟晨  李烨  李浩然
作者单位:河北工业大学电子信息工程学院;河北工业大学天津市电子材料与器件重点实验室
基金项目:河北省高层次人才资助项目百人计划项目(E2013100006)
摘    要:以纳米二氧化铈(CeO2)为磨料,使用球磨与不同化学试剂(如pH值调节剂乙酸、丙酸、植酸和分散剂离子型表面活性剂、非离子型表面活性剂)的协同分散方法制备纳米CeO2抛光液,研究酸性体系下不同抛光液的分散性能与抛光性能。研究表明,球磨时以乙酸为pH值调节剂,调节溶液pH值为3,料球比为1∶4,球磨时间为6 h,球磨后纳米CeO2悬浮液分散效果较好。采用制备的纳米CeO2抛光液对石英玻璃进行抛光实验。结果表明:在磨料质量分数为1%、pH为4的条件下,石英玻璃的材料去除速率最高为409 nm/min,粗糙度仅为0.03 nm;阳离子、非离子型表面活性剂均有助于提升酸性体系下CeO2悬浮液的分散稳定性,而加入非离子表面活性剂AEO-9(脂肪醇聚氧乙烯醚)效果最佳,其能够在提高分散稳定性的基础上改善石英玻璃的表面质量。

关 键 词:CeO2  石英玻璃  表面活性剂  化学机械抛光  去除速率

Research on High-Efficiency Rare Earth Polishing Slurry for CMP of Optical Glass
WANG Ye,ZHANG Baoguo,WU Pengfei,XIE Mengchen,LI Ye,LI Haoran.Research on High-Efficiency Rare Earth Polishing Slurry for CMP of Optical Glass[J].Lubrication Engineering,2023,48(5):79-84.
Authors:WANG Ye  ZHANG Baoguo  WU Pengfei  XIE Mengchen  LI Ye  LI Haoran
Abstract:
Keywords:CeO2  quartz glass  surfactant  chemical mechanical polishing  removal rate
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