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分步插层法制备含磷化合物插层GIC的研究
引用本文:张达威,吴泽,张显友.分步插层法制备含磷化合物插层GIC的研究[J].化学工程师,2007,21(2):8-10.
作者姓名:张达威  吴泽  张显友
作者单位:哈尔滨理工大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150040
基金项目:黑龙江省自然科学基金项目(E200613),黑龙江省教育厅科学技术研究项目(11511064),黑龙江省研究生创新基金
摘    要:本文采用化学氧化直接插层和分步插层法制备含磷化合物插层GIC,通过对GIC的受热失重变化及膨胀前后石墨层间结构变化的研究表明:直接插层体系的最佳工艺条件为石墨∶H2SO4∶K2Cr2O4(质量比)=1∶4.92∶0.1;分步插层法制备含磷化合物插层GIC的最佳工艺条件为:对直接插层产物水洗pH值为3后,用含磷化合物溶液在30℃下浸泡1h。分步插层法所制得含磷化合物插层GIC的抗氧化性能提高。X-射线衍射(XRD)对GIC的结构研究表明,插层后石墨层间距离发生了显著变化。

关 键 词:石墨层间化合物  分步插层  磷酸  磷酸铵  聚磷酸铵
文章编号:1002-1124(2007)02-0008-03
修稿时间:2006-12-15

Preparation of GIC intercalated with phosphorous compounds by two-step method
ZHANG Da-wei,WU Ze,ZHANG Xian-you.Preparation of GIC intercalated with phosphorous compounds by two-step method[J].Chemical Engineer,2007,21(2):8-10.
Authors:ZHANG Da-wei  WU Ze  ZHANG Xian-you
Affiliation:School of Material Seience and Engineering, Harbin University of Science and Technology, Harbin 150040, China
Abstract:
Keywords:GIC  second dary intercalation  phosphoric acid  (NH4)3PO4  APP
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