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下一代光刻开发的进展
摘 要:
虽然下一代光刻(NGL)技术的开发仍在继续大力开展工作,但许多人一直支持“不断延续光学光刻”的呼声。248nm光刻性能的进一步扩展,更激励许多企业界人士指望用193nm光刻来完成45nm技术节点的光刻。
关 键 词:
下一代光刻
极远紫外光刻
电子束光刻
分辨率增强
浸没法光刻
技术节点
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