|
|||||
|
|
| 深紫外和X射线光刻技术 | |
| 引用本文： | 冯伯儒,姚汉民,张锦,侯德胜.深紫外和X射线光刻技术[J].光电工程,1997(Z1). |
| 作者姓名： | 冯伯儒 姚汉民 张锦 侯德胜 |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 |
| 摘 要： | 阐述了深紫外光刻技术和Ｘ射线光刻技术的发展，一些相关单元技术，以及深紫外和Ｘ射线光刻技术的前景。 |
| 关 键 词： | 远紫外光刻，X射线光刻，光刻工艺，分辨率 |
Deep UV and X Ray Microlithography |
|
| Feng Boru,Yao hanmin,Zhang Jin,Hou Desheng.Deep UV and X Ray Microlithography[J].Opto-Electronic Engineering,1997(Z1). | |
| Authors: | Feng Boru Yao hanmin Zhang Jin Hou Desheng |
| Abstract: | The development of D UV and x ray microlithographies,some related unit techniques and their prospects are described. |
| Keywords: | Far ultraviolet lithography X ray photolithography Photoetching technology Resolution |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
