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HBr反应离子刻蚀米硅深槽

引用本文：	刘家璐,王清平.HBr反应离子刻蚀米硅深槽[J].西安电子科技大学学报,1998,25(1):76-78.

作者姓名：	刘家璐王清平

摘要：
关键词：	反应离子刻蚀硅深槽溴化氢集成电路工艺
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