| 溅射气压对ZrO2薄膜微结构与光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 刘建华,徐可为.溅射气压对ZrO2薄膜微结构与光学性能的影响[J].功能材料,2004,35(Z1):292-294. |
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| 作者姓名： | 刘建华 徐可为 |
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| 作者单位： | 刘建华（西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049）;徐可为（西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049） |
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| 摘 要： | 利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO2薄膜.膜厚60～80nm.研究发现,溅射气压升高,薄膜结晶程度降低,同时存在单斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率上升;透射率在700～1000nm波段上升.这些结果表明溅射气压影响ZrO2薄膜生长机制、微观结构和成份,进而影响其光学性能.
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| 关 键 词： | ZrO2薄膜 磁控溅射 溅射气压 相结构 O/Zr |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)增刊-0292-03 |
| 修稿时间： | 2004年3月30日 |
Influence of sputtering
pressure on microstructure and optical characteristics of ZrO2 films |
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| LIU Jian-hua.Influence of sputtering
pressure on microstructure and optical characteristics of ZrO2 films[J].Journal of Functional Materials,2004,35(Z1):292-294. |
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| Authors: | LIU Jian-hua |
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| Keywords: | |
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