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| 低能量发火Ni-Cr薄膜桥制备及性能分析 | |
| 引用本文： | 颜志红,谢贵久,景涛,龚杰洪,王科伟,章良.低能量发火Ni-Cr薄膜桥制备及性能分析[J].火工品,2011(5):29-32. |
| 作者姓名： | 颜志红 谢贵久 景涛 龚杰洪 王科伟 章良 |
| 作者单位： | 1. 中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙,410111 2. 北方特种能源集团有限公司庆华公司,陕西西安,710025 3. 空军驻湖南军代室,湖南长沙,410100 |
| 摘 要： | 介绍一种低能量Ni-Cr薄膜桥发火件的设计结构参数和工艺,薄膜桥设计尺寸为90μm×1 0μm×5μm,电阻值为(4.3±0.4)Ω,典型发火能量为4.1V/84μJ.在同批768个产品中抽样480个进行发火试验,结果表明:98％的样品可在4.5V/100μJ能量下引燃,100％的样品可在4.8V/115μJ能量下引燃... |
| 关 键 词： | 薄膜 低能量 发火 Ni-Cr合金 |
Preparation and Properties of Ni-Cr Thin Film Bridge with Low Firing Energy |
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| YAN Zhi-hong,XIE Gui-jiu,JING Tao,GONG Jie-hong,WANG Ke-wei,ZHANG Liang.Preparation and Properties of Ni-Cr Thin Film Bridge with Low Firing Energy[J].Initiators & Pyrotechnics,2011(5):29-32. | |
| Authors: | YAN Zhi-hong XIE Gui-jiu JING Tao GONG Jie-hong WANG Ke-wei ZHANG Liang |
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