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| 0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型 | |
| 引用本文： | 胡淞,姚汉民,张津,李展,曾晓阳,苏伟军.0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型[J].光电工程,1998(Z1). |
| 作者姓名： | 胡淞 姚汉民 张津 李展 曾晓阳 苏伟军 |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所!成都，610209，中国科学院光电技术研究所!成都，610209，中国科学院光电技术研究所!成都，610209，中国科学院光电技术研究所!成都，610209，中国科学院光电技术研究所!成都，610209，中国科学院光电技术研究所!成都，610209 |
| 摘 要： | 介绍用于 0 .35μm投影光刻机的逐场调平技术 ,讨论其检测和控制原理 ,并作精度分析 ;讨论逐场调平对套刻精度的影响 ,并建立三轴测量逐场调平的套刻步进模型。 |
| 关 键 词： | 投影光刻机 逐场调平 步进模型 |
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