| 掩模测量人眼波前像差技术研究 |
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| 引用本文： | 高卫华,王肇圻,郭欢庆,母国光.掩模测量人眼波前像差技术研究[J].光电子．激光,2004,15(11):1361-1364. |
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| 作者姓名： | 高卫华 王肇圻 郭欢庆 母国光 |
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| 作者单位： | 南开大学、天津大学联合研究院,南开大学现代光学研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;南开大学、天津大学联合研究院,南开大学现代光学研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;南开大学、天津大学联合研究院,南开大学现代光学研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;南开大学、天津大学联合研究院,南开大学现代光学研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071 |
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| 基金项目： | 教育部南开大学、天津大学合作基金资助项目，天津市科技攻关重点资助项目(033183711) |
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| 摘 要： | 对基于Hartmann-Shack(H-S)原理测量人眼波前像差的掩模技术进行了研究。利用光学系统将液晶显示器(LCD)制成的掩模对应成像在微透镜阵列面，对模拟眼进行测量。设计了针对不同采样密度的H-S系统的各类掩模，扩大子孔径内像差测量范围，最大可测像差分别提高到L2／f、2L^2／f和4L^2／f，解决了光斑溢出和粘连的问题，实现了对大像差人眼的准确测量。
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| 关 键 词： | 波前像差 Hartmann-Shack(H-S)原理 传感器 掩模 |
| 文章编号： | 1005-0086(2004)11-1361-04 |
Study on the Mask Method for Measuring the Eye's Wavefront Aberration |
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| GAO Wei-hua.Study on the Mask Method for Measuring the Eye's Wavefront Aberration[J].Journal of Optoelectronics·laser,2004,15(11):1361-1364. |
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| Authors: | GAO Wei-hua |
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| Affiliation: | GAO Wei-hua~ |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | wavefront aberration Hartmann-Shack(H-S) principle sensor mask |
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