| 半导体制造中颗粒污染的控制方法研究 |
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| 引用本文： | 李敬,钱省三.半导体制造中颗粒污染的控制方法研究[J].半导体技术,2004,29(8):38-40,46. |
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| 作者姓名： | 李敬 钱省三 |
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| 作者单位： | 上海理工大学工业工程研究所/微电子发展研究中心,上海,200093;上海理工大学工业工程研究所/微电子发展研究中心,上海,200093 |
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| 摘 要： | 首先分析了半导体制造中颗粒污染的来源,然后介绍了用C控制图进行颗粒污染控制的方法及其不足,进而提出了用多元回归分析进行颗粒污染控制的方法及实施.
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| 关 键 词： | 污染 成品率 C控制图 多元回归分析 |
| 文章编号： | 1003-353X(2004)08-0038-03 |
Research of the control method for particles during semiconductor manufacturing |
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| LI Jing,QIAN Xing-san.Research of the control method for particles during semiconductor manufacturing[J].Semiconductor Technology,2004,29(8):38-40,46. |
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| Authors: | LI Jing QIAN Xing-san |
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| Abstract: | Particle source is analyses , and then it introduces the application of C control chart, as well as its shortage, at last brings forward the method of using multiple regression analysis to set control limits for the particles. |
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| Keywords: | contamination yield C control chart multiple regression analysis |
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