| 晶粒尺寸对CVD金刚石膜电学特性的影响 |
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| 引用本文： | 崔江涛,王林军,苏青峰,阮建锋,蒋丽雯,史伟民,夏义本.晶粒尺寸对CVD金刚石膜电学特性的影响[J].功能材料与器件学报,2006,12(4):275-279. |
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| 作者姓名： | 崔江涛 王林军 苏青峰 阮建锋 蒋丽雯 史伟民 夏义本 |
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| 作者单位： | 上海大学材料科学与工程学院,上海,200072 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)
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上海市应用材料研究与发展基金
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上海市纳米科技专项基金
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上海市教委资助项目 |
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| 摘 要： | 通过改变生长参数,采用热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了从10μm到90nm四种晶粒尺寸的金刚石膜,并制作了三明治结构的光电导探测器.采用原子力显微镜和拉曼光谱仪研究了薄膜的结构和表面形貌:表面粗糙度从423nm变化到15nm;晶粒越大,金刚石膜的质量越好.I-V特性测试结果表明随着晶粒尺寸的减小,金刚石膜的电阻率从1011Ω·cm减小到106Ω·cm.在5.9 keV的55Fe X射线辐照下,随着晶粒尺寸的减小,探测器的信噪比(SNR)呈减小趋势.
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| 关 键 词： | 金刚石膜 电学特性 晶粒尺寸 HFCVD |
| 文章编号： | 1007-4252（2006）04-0275-05 |
| 收稿时间： | 2005-08-29 |
| 修稿时间： | 2005-10-26 |
Electrical properties of CVD diamond films with different grain sizes |
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| CUI Jiang-tao,WANG Lin-jun,SU Qing-feng,RUAN Jian-feng,JIANG Li-wen,SHI Wei-min,XIA Yi-ben.Electrical properties of CVD diamond films with different grain sizes[J].Journal of Functional Materials and Devices,2006,12(4):275-279. |
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| Authors: | CUI Jiang-tao WANG Lin-jun SU Qing-feng RUAN Jian-feng JIANG Li-wen SHI Wei-min XIA Yi-ben |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | HFCVD diamond films grain size detector electric properties |
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