| 反应烧结Si3N4陶瓷材料的力学性能及微观组织 |
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| 引用本文： | 叶超超,王伟,茹红强,王远鑫,刘家臣.反应烧结Si3N4陶瓷材料的力学性能及微观组织[J].材料与冶金学报,2024(1):48-53+85. |
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| 作者姓名： | 叶超超 王伟 茹红强 王远鑫 刘家臣 |
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| 作者单位： | 1. 天津大学材料科学与工程学院;2. 东北大学材料科学与工程学院;3. 浙江恒基永昕新材料股份有限公司 |
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| 基金项目： | 潍坊市科技发展计划项目(2021GX001)； |
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| 摘 要： | 用静态气压与流动氮气气氛进行对比实验，探究了反应烧结Si3N4陶瓷中硅粉质量分数对Si3N4陶瓷材料氮化率及力学性能的影响.研究结果表明，当使用静态2 MPa氮气气压对硅粉进行氮化时，氮化率达到97%,明显高于流动氮气气氛下硅粉的氮化率(91%).这说明在使用静态氮气时，较高的气压更有利于氮气的扩散和氮化反应.同时，利用SEM等手段观察静态气压反应烧结Si3N4陶瓷材料，发现当硅粉质量分数大于10%时，Si3N4陶瓷材料表面出现气孔.这是因为随着硅粉质量分数的增加，硅粉在熔融状态下发生团聚现象，这造成了坯体内部再生空隙增加，从而导致Si3N4陶瓷材料的维氏硬度和抗折强度降低.
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| 关 键 词： | 氮化硅 反应烧结 硅粉 |
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