| 氧压与ZnO薄膜发光特性的关系研究 |
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| 引用本文： | 王兆阳,胡礼中.氧压与ZnO薄膜发光特性的关系研究[J].半导体光电,2009,30(4):574-577. |
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| 作者姓名： | 王兆阳 胡礼中 |
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| 作者单位： | 沈阳航空工业学院,理学院,沈阳,110136;大连理工大学,物理与光电工程学院,辽宁,大连,116024 |
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| 基金项目： | 辽宁省教育厅科研项目，沈阳航空工业学院博士启动基金 |
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| 摘 要： | 在不同的环境氧压下用脉冲激光沉积方法在Si(111)衬底上生长了ZnO薄膜,以325 nm He-Cd激光器为激发源获得了薄膜的荧光光谱以研究其发光特性,用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)研究了薄膜的晶体结构和表面形貌,结果表明氧压在20 Pa和50Pa之间制备的ZnO薄膜具有良好的紫外发光特性和较好的晶体质量.分析了ZnO薄膜的发光机理,认为薄膜紫外峰源自自由激子复合发光,绿光峰的发光机制与锌位氧OZn关系密切,氧空位是蓝光发射的重要原因.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 氧压 发光特性 发光机理 |
Effects of Oxygen Pressure on Optical Properties of ZnO Thin Films |
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| WANG Zhao-yang,HU Li-zhong.Effects of Oxygen Pressure on Optical Properties of ZnO Thin Films[J].Semiconductor Optoelectronics,2009,30(4):574-577. |
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| Authors: | WANG Zhao-yang HU Li-zhong |
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