化学共沉淀法制备喷墨打印用光致变色色料

陶瓷喷墨打印技术以其独特的优点已成为各国研究的热点,开发功能型的墨水是陶瓷喷墨打印装饰技术发展的关键。采用化学共沉淀法,通过正交试验,制备了用于陶瓷喷墨打印墨水的光致变色色料粉体。通过紫外可见反射光中主要红色及蓝色波段的反射率研究样品的色度,确定优化制备条件为:w(Nd~(3+))∶w(Al~(3+))=1∶0.692、pH值为9、煅烧温度为1 000℃,较优样品在红色及蓝色波段反射率最高,蓝色波段反射率为134.44%,红色波段反射率为143.48%,样品变色的效果最显著。XRD分析表明,这种光致变色色料的样品主晶相为铝酸钕,结晶度达91.67%,次晶相为氧化钕。TEM研究表明,色料颗粒通过TEM测试分析得出:尺寸大小为150～200 nm,晶粒形貌呈六方形,晶格条纹清晰,晶体生长发育良好。     

梯度折射率介质对复变量sinh-Gaussian光束传输的影响

为了研究梯度折射率介质对复变量双曲正弦高斯光束的传输影响,利用广义惠更斯-菲涅耳衍射积分法推导出了复变量双曲正弦高斯光束在梯度折射率介质中的传输场,运用空间二阶矩的定义解出了光斑尺寸及其变化率的表达式,并进行了数值模拟分析。结果表明,光斑尺寸及其变化率随传输距离的增加呈周期性变化,周期由折射率系数决定;随光束参量的改变,光斑位置不变,周期性不变,但是光斑尺寸的振荡幅度要发生改变;通过调整这些参量,可以改变光斑尺寸及其位置。此项研究对大功率半导体激光器等方面的开发应用有帮助。     

光致荧光剂量计β辐照器的研制及性能研究

本文针对空间辐射、核动力远洋、核应急等特殊环境下个人及环境剂量监测量值无法实时校准的问题，研制了一种便携式的β辐照器，可携带至现场对光致荧光剂量计（OSLD）进行校准，为特殊环境下剂量监测的准确性提供计量保障。β辐照器采用可替换的⁹⁰Sr-⁹⁰Y平面电镀源作为校准源，并可溯源至标准β辐射场，通过电磁阀控制辐照动作，其总质量小于3 kg。研究结果表明：β辐照器周围剂量当量率处于环境水平；参考点平均剂量率为0.060~0.083 mGy/s，其相对标准不确定度为6.9%；辐照剂量重复性为3.9%（n=10）。     

B2O3-K2O-Sb2O3系统玻璃的光学折射率及带隙

高折射率和非线性光学玻璃可以用于高速光开关、光学存储器、新型光纤和光学运算元件等，其研究受到各国科技工作者的高度重视，本文采用熔融淬冷法制备了组成为(85-x)B₂O₃-15K₂O-xSb₂O₃(x=70, 75, 80, 85)的4组玻璃，测试了玻璃样品的密度、折射率、热学性能、拉曼光谱和吸收光谱，利用玻璃样品的吸收光谱计算了其直接允许光学带隙、间接允许光学带隙及Urbach能量。结果表明：随着Sb₂O₃含量的增加，玻璃样品的密度从4.445g/cm³逐渐增加到4.767g/cm³，折射率从1.9438增加到2.0058，玻璃转变温度从291℃降低到260℃，玻璃析晶温度从463℃降低到370℃，直接光学带隙从3.2775eV降低到3.1379eV，间接光学带隙从3.1444eV降低到3.0256eV，Urbach能量从0.137eV逐渐减小到0.107eV。说明Sb₂O₃-K₂O-B₂O₃系统玻璃可以作为新型的非线性光学玻璃候选材料之一。     

纳米硅薄膜光学性质的测定与研究

通过测定纳米硅薄膜的透射谱,建立计算模型计算得出薄膜样品的折射率、厚度、吸收系数和光能隙.计算结果表明这种半导体材料在620 nm波长附近的折射率约为3.4,计算得到的厚度与用台阶仪测量的结果吻合很好.在620 nm波长附近的吸收系数介于吸收系数较小的晶体硅与吸收系数较大的非晶硅之间,光能隙约为1.6 eV,两者都随晶态含量增大而呈减小趋势.     

TiO2薄膜光致超亲水性与辐照条件的关系的研究

通过改变光源的种类和数量,研究了UV光波长、强度以及辐照时间与TiO_2薄膜光致超亲水性的关系,发现随着UV光波长的减短和强度的增大,TiO_2薄膜达到超亲水性所需的辐照时间缩短,在波长为254nm,强度为3．81 mW/cm~2的UV光辐照下,只需0．5h就能使TiO_2薄膜达到超亲水状态。将超亲水状态的TiO_2薄膜置于暗处,其接触角逐渐增大,前几个小时的变化速率较快,两种TiO_2薄膜的初始变化速率相近,约为1．5°/h。本文还提出了定量表征光致超亲水性的参数_v,讨论了太阳光和人造光源的强度对光致超亲水性的影响的差别,为TiO_2薄膜实际使用中辐照条件的选择提供了参考依据。