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1.
Investigation into polishing process of CVD diamond films 总被引:1,自引:0,他引:1
A new technique used for polishing chemical vapor deposition (CVD) diamond films has been investigated, by which rough polishing of the CVD diamond films can be achieved efficiently. A CVD diamond film is coated with a thin layer of electrically conductive material in advance, and then electro-discharge machining (EDM) is used to machine the coated surface. As a result, peaks on the surface of the diamond film are removed rapidly. During machining, graphitization of diamond enables the EDM process to continue. The single pulse discharge shows that the material of the coated layer evidently affects removal behavior of the CVD diamond films. Compared with the machining of ordinary metal materials, the process of EDM CVD diamond films possesses a quite different characteristic. The removal mechanism of the CVD diamond films is discussed. 相似文献
2.
3.
Preliminary experiments using two chemicals (CaO, a quicklime, and a cationic nitrogen-bearing precipitant, EC-004) to remove silica from geothermal brine were undertaken at the Mokai geothermal plant, New Zealand. The brine was mixed with the reagent (CaO or EC-004). The reaction was studied from the start of the experiment (NRT, 0 min, no retaining time) and after 15 min (15RT) at 90 °C. The concentration of silica in the brine was initially 954 mg/l, and decreased linearly with increasing reagent concentration. When CaO is added, the silica concentration at 15RT was 200 mg/l lower than at NRT and became almost zero on addition of 1.5 g/l. In contrast, when EC-004 is added, the total silica concentration nearly reaches the solubility of amorphous silica at 90 °C. In order to prevent silica scaling in Mokai brines cooled to 90 °C, the CaO and EC-004 added should be individually adjusted to 0.5 g/l and 80 mg/l, respectively. 相似文献
4.
5.
基于约束的设备维修方式选择 总被引:2,自引:0,他引:2
曲立 《北京机械工业学院学报》2002,17(4):60-63
企业选择合理的设备维修方式,对提高企业竞争力及企业经济效益有重要影响。将约束理论应用于设备维修方式选择中,分析设备系统约束的特征,识别设备系统约束,区分关键设备与非关键设备部分,并对2个中分分别选择不同的维修方式及组合,可在改善设备系统输出效率同时提高维修的效用。通过实例分析,指明约束理论在设备维修方式选择中的实际应用步骤与程序。这为约束理论在设备管理中的进一步应用提供一个参考。 相似文献
6.
铜电解精炼过程中砷、锑、铋的危害及脱除方式的进展 总被引:6,自引:1,他引:5
在铜电解精炼过程中 ,砷、锑、铋等杂质 ,尤其是锑、铋 ,一直来被人们认为是对阴极铜生产、影响阴极铜质量的最为有害的元素。本文结合贵冶历年的生产实践来讨论砷、锑、铋等杂质在阴极铜生产过程中的危害以及脱除方式的进展。 相似文献
7.
在实验室研究的基础上,建立了1套处理能力为1.0 m3/h的可再生吸附除油中试装置.利用该中试装置,在除油单元添加75 kg改性后的吸油材料,并使冷凝液以下流方式流经除油单元,控制进水流量为1.0 m3/h,进行了600 h的稳定运行试验.结果表明,除油单元对冷凝液中总有机碳(TOC)的去除率不低于85%,装置出水的电导率小于1.0 μS/cm,TOC质量浓度小于0.5 mg/L,SiO2质量浓度小于18 μg/L,其水质完全符合二级脱盐水的质量要求. 相似文献
8.
对新建己二胺装置中第一脱氢塔分离能力不足的原因进行了分析,并采取针对性的措施;从而使己二胺装置整体负荷达到设计能力。 相似文献
9.
为了解决单一负荷或逐步提高负荷下培养颗粒污泥所需时间较长、污染物去除不稳定的问题,本文提出采用交替改变进水碳氮负荷方式,研究好氧颗粒污泥(AGS)形成过程及污染物去除效果。通过设计进水/曝气/沉淀/排水(S1反应器)和进水/曝气/停曝/曝气/停曝/曝气/沉淀/排水(S2反应器)两种运行方式培养好氧颗粒污泥,对比分析颗粒污泥形成过程中污泥形态变化、污泥沉降性能及对污染物去除情况。结果表明,S1反应器在第84天、S2反应器在第78天均可形成平均粒径为0.5mm的颗粒污泥,第115d时两个反应器内颗粒污泥的平均粒径分别为0.85mm、0.97mm。S1、S2反应器内的MLSS、SVI的质量浓度分别达到了4.94g/L-1、5.895g·L-1和80mL/g、46mL/g,S2运行方式下,形成的颗粒污泥更有利于微生物的生长,使反应器内维持较高的生物量且沉降性能更优。两种运行模式下COD、NH4+-N的去除效果变化甚微,TN、PO43--P去除效果差异较明显。S1运行方式下COD、NH4+-N、TN、PO43--P去除率分别为90.0%、99.7%、74.5%和85.0%,S2运行方式下COD、NH4+-N、TN、PO43--P去除率分别为94.0%、99.9%、94.4%和95.0%,与前者相比COD、NH4+-N、TN、PO43--P去除率分别增加了4.0%、0.2%、19.9%和10.0%。因此,进水碳氮负荷同步交替变化-进水/曝气/停曝/曝气/停曝/曝气/沉淀/排水方式可在更短的时间内培养出粒径更大、污染物去除性能更优的好氧颗粒污泥。 相似文献
10.