离子镀铝青铜膜的XTEM研究

本文利用透射电镜对离子镀铝青铜膜进行横截面显微组织研究结果表明:整个膜层分为细等轴晶、细纤维状及柱状晶三种不同形态的生长区并且柱状晶主要以孪晶方式生长膜中存在NiAIl Cu_9Al_4合金相,与基体取向关系为:讨论了膜层成核和生长过程发现气相沉积膜层中存在生长条纹     

Cr在多弧离子镀（Ti，Cr）N复合膜中的作用

利用AlP—01多弧离子镀膜机，通过改变铬靶电流，在高速钢基体上沉积出不同Cr含量的（Ti，Cr）N复合膜涂层，用扫描电子显微镜、微纳米力学测试仪和X射线对薄膜的表面颗粒、硬度及内应力进行了分析。结果表明：薄膜中添加Cr能减小表面颗粒尺寸，提高硬度，当Cr的含量达到31％（wt）时，薄膜硬度达到最高值，此时薄膜的内应力也最大。     

金属陶瓷多弧离子镀TiN／TiAlN涂层的结构与性能

采用多弧离子镀技术在Ti（C，N）基金属陶瓷基体上沉积了TiN／TiAlN涂层，通过扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、原子力显微镜等分析技术对其显微组织、成分、相结构、粗糙度及涂层与基体间的结合强度进行了分析。结果表明，多弧离子镀TiN／TiAlN涂层后试样的表面为金黄色，涂层光滑平整，其均方根粗糙度为20．6nm，显微硬度达到2808HK。TiN相和TiAlN相均存在强烈的（111）择优取向。Al的含量从涂层内部到表面逐渐增大，呈现梯度分布特征。TiN／TiAlN涂层与金属陶瓷之间的结合强度高达57．52N。     

ZL201铝合金多弧离子镀镍性能的研究

用多弧离子镀的方法在ZL201铝合金表面制备了一层镍涂层，并用扫描电镜和X射线衍射仪对涂层表面形貌和物相进行了分析，结果表明：涂层表面存在着大量宏观颗粒，镍涂层呈现(200)晶面择优取向。浸泡腐蚀实验表明,镍涂层可以有效提高ZL201铝合金的抗盐水腐蚀的能力.     

MICROHARDNESS DISTRIBUTION AT INTERFACE OF(N~++IP)-TiN COMPOSITE COATINGS ON STEEL

The composite coating of(N~++IP)-TiN was prepared by ion-plated TiN film ontoion-nitrided case on the low carbon steel substrate.The microhardness measurement along in-terface between IP-TiN coating and substrate was detected as a moderate decrease in magni-tude with increase of distance from the coating surface.This seems due to the occurrence ofion nitride case,ε-Fe_3N-Fe_2N and Fe_4N phases,along the interface.     

TEM OBSERVATION OF ION-PLATED Al FILM ON Ni SUBSTRATE

A new phase was found at the interface between Al film and Ni substrate when the time ofion-plating reaches 5 min.It was identified to be body centered tetragonal lattice with theconstants a=b=0.588 nm,c=0.480 nm.The variation of microstructure and phases with theion-plating time were observed.Based on these results,the ion-plating film formation mech-anism has been also discussed.     

电弧离子镀制备 TiSiN 纳米复合涂层

目的在SiH4气氛下制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,为SiH4用于工业化TiSiN涂层生产提供依据。方法采用电弧离子镀技术,在SiH4气氛下,于单晶硅和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,研究SiH4流量对TiSiN涂层化学组分、微观结构、硬度和耐磨性能的影响。结果 SiH4流量对TiSiN纳米复合涂层的微观结构、硬度及摩擦系数的影响明显。随着SiH4流量的增加,TiSiN涂层由柱状晶生长的晶体结构逐渐转变为纳米晶镶嵌于非晶基体的复合结构。Si在涂层中以Si3N4非晶相存在,随着涂层中Si含量逐渐增加,TiN晶粒尺寸逐渐减小,Si3N4起到细化晶粒的作用。在42 m L/min的SiH4流量下,涂层硬度高达4100HV0.025。在对磨材料为硬质合金的条件下,TiSiN涂层摩擦系数小于0.6。结论 SiH4气氛下可以制备出Ti N纳米晶镶嵌于Si3N4非晶相结构的TiSiN纳米复合涂层,涂层的显微硬度较高。SiH4可以作为Si源用于TiSiN纳米复合涂层的工业化生产。     

镀膜技术的最新发展—光学薄膜低压反应离子镀

光学薄膜低压反应离子镀技术是近年来镀膜技术领域中的最新进展,在原理上完全不同于以往曾广泛研究的离子辅助镀膜技术,更以其能制备出聚集密度更高、光机性能更稳定、更加坚硬牢固、无柱状结构的薄膜受到国际薄膜光学界的高度重视。本文简析了低压反应离子镀技术的成膜过程和低电压大电流等离子体源的工作机理,概述了该技术发展的历程以及已取得的主要成果,介绍了该技术现存的主要问题和我国已开展的研究项目。     

Ni基体磁控溅射离子镀Al膜的电镜观察

利用横截面电镜样品,对Ni基体磁控溅射离子镀Al膜进行了透射电镜观察。研究了不同工艺条件下镀膜的组织形态,相结构以及相分布。镀覆5min时,在Ni基体和镀Al膜交界处,发现一个Al-Ni系中迄今未见报道的未知相。经电子衍射分析其为体心四方点阵,a=b=0.588nm,c=0.480nm。研究了随时间变化的镀膜组织结构变化情况。     

TiAlCrFeSiBN多元膜的性能与组织结构研究

采用电弧离子镀技术、TC7双相钛合金靶沉积TiAlCrFeSiBN薄膜，研究了这种多元膜的显微硬度、高温氧化性能和组织结构。结果表明：这种多元膜具有优于TiN膜的显微硬度；具有不同于TiN膜的显微组织，其最显著的特征是存在较多细小的钛滴，这些钛滴与膜之间的融合效果很好；膜层上孔隙较少；具有TiN的面心立方结构，与TiN膜相比，具有更加明显的择优取向趋势。