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研究了等离子体工艺参数对射频辉光放电沉积的a-Si:H膜中氢的键合状态的影响及氢在退火时的释放机理。结果表明:可以通过不同的制备条件(特別是等离子体压力)控制a-Si:H膜中氢的键合状态。提出了以空间氢聚团模型解释在a-Si:H膜的退火过程中氢的释放机理。 相似文献
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序号S 日 期D 地 点g 名 称 111.13~16 联邦德国 法兰克福 g 室内和家用纺织品国际贸易展览会 2II·14~18 法 国 巴 黎5 国际地毯展览会 3 JI.17~19 J 英 国 伯明翰J 缝纫工业展览会 4 BI.17~20 瑞 士 苏黎世 I 室内设计、工艺品和高级时装贸易展览会 5]2.23~25 英 国 累斯特 l 国际纱线展览 6。ZZ.25~28 联邦德国 辛德芬根】国际织造工艺和材料展览暨会议 7I2.28~3.11 新西兰 奥克兰1 家用纺织品和装饰织物展览 813.6~3.10 联邦德国 杜塞尔多夫 l 第156届伊格多国际时装博览会(同时举办第17届 】】]衬衫、内衣、泳装博览会) … 相似文献
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具有高可用性的负载均衡技术的研究与实现 总被引:2,自引:0,他引:2
负载均衡技术的使用能够在不对网络中各种设备进行重大改造的条件下提高各种服务的质量,是解决当前网络业务迅猛增加和升级硬件设施之间矛盾的一个有效措施。该文研究并实现了一种基于Linux系统的简易的具有高可用性的负载均衡技术,并在实验室环境下做了测试与分析。 相似文献